您所在的位置： 首頁 > 新聞資訊 > 環(huán)評公示
江蘇赫菲斯半導體有限公司化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目 環(huán)評公示 |
| 發(fā)布者：無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 發(fā)布時間：4/9/2025 10:10:53 AM 點擊次數(shù)：913 關(guān)閉 |
項目名稱:化學氣相沉積設備研發(fā)測試項目 建設單位:江蘇赫菲斯半導體有限公司 地址:無錫市新吳區(qū)長江南路52-8號新港集成電路裝備零部件及材料產(chǎn)業(yè)園3層 環(huán)境影響評價機構(gòu):無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 聯(lián)系電話:0510-68566079 郵箱:1xhb668@163.com 公眾提出意見的主要方式:電話、郵件 公示日期為2025年4月9日-2025年4月19日
|
手機網(wǎng)站！
電話：13812505289
郵箱：552168536@qq.com
地址：無錫市新吳區(qū)龍山路2-18號融智大廈E幢1302室
友情鏈接：
企業(yè)分站：
Copyright 2019-2020 無錫市科泓環(huán)境工程技術(shù)有限責任公司 版權(quán)所有 公司網(wǎng)址：http://www.fangcaoyuan.cn 蘇ICP備19061098-1號
免責聲明：本網(wǎng)站有部分內(nèi)容來自互聯(lián)網(wǎng)，如無意中涉及第三方知識產(chǎn)權(quán)，請來電或致函告之，本網(wǎng)站會及時回復并改進。技術(shù)支持：錫牛網(wǎng)絡
手機網(wǎng)站！
